专利摘要:

公开号:WO1985000246A1
申请号:PCT/JP1984/000332
申请日:1984-06-28
公开日:1985-01-17
发明作者:Keiichi Noi;Akihiro Takami;Kazuhide Ebine;Kimiko Kumazawa
申请人:Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.;
IPC主号:H01C7-00
专利说明:
[0001] • 明 細 書
[0002] 発明の名称
[0003] 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物
[0004] 技術分野
[0005] 本発明は各種電気機器, 電子機器において異常電圧吸収及び ノィズ除去などに使用される電圧依存性非直線抵抗体磁器組成 物に関するものである o
[0006] 背景技術
[0007] 従来各種電気機器, 電子機器において異常高電圧の吸収, 雑 音の除去, 火花消去 ¾どのために電圧依存性非直線抵抗特性を 有する S iCバリスタゃ ZnO系バリ スタ どが使用されている o このよう バリ スタの電圧一電流特性は近似的に次式のよ う に表わすことができる。
[0008] I = ( V C )な
[0009] ここで Iは電流, Vは電圧, Cはパリ スタ固有の定数でぁ 、
[0010] «は電圧非直線指数である o
[0011] SiCバリス タ の は 2〜 7程度, ZnO系バリ スタでは 5 Oに もおよぶものがある 0 このよ う バリスタはサージと呼ばれる 比較的高い電圧の吸収には優れた特性を有している力 誘電率 が低く固有の静電容量が小さいためバリス タ電圧以下の低い電 圧 (例えばノ イ ズ ¾どの吸収) に対してはほとんど効果を示さ ず、 また誘電損失角ね n 3 も 5〜 ι ο %と大きい o
[0012] —方これら低電圧のノ イ ズ, 静電気 どの除去には組成や焼 成条件を適当に選択することによ ]9見かけの誘電率が
[0013] 5 X 1 04〜 6 X 1 04 程度で tan 3が 1 %前後の半導体磁器コ ンデンサが利用されている o
[0014] しかし、 これらの半導体磁器コ ンデンサはサージ ¾どの異常 高電圧が印加され、 ある限度以上の電流が素子に印加されると、 破壊した!) コ ンデンサとしての機能を杲たさるく ¾つた する。
[0015] このよ う ¾理由から電気機器, 電子機器においては、 高電圧 のサージ吸収と低電圧のノィズ除去の両方を目的としてバリス タとコ ンデンサ及び他の部品 (例えばコ イ ルなど) とを組み合 わせて使用され、 例えばノ イ ズフ ィ ルタはこのよ う ¾檮成に ¾ つている o
[0016] 第 1 図は一般的なノ イ ズフ ィ ルタ回路を示し、 第 2図はバリ ス タ , コ ンデンサ及びコィルを組み合わせて構成された従来の ノ イ ズフ ィ ルタ回路を示してお] 、 1 はコイ ル、 2はコンデン サ、 3はバリス タである 0
[0017] これらの回路に第 5図に示すよ うなノ イ ズ入力 Aを印加した ところ、 第 1 図の一般的なノ イ ズフ ィ ルタ回路からの出力特性 は第 5図の Cのようであ ] 、 十分にノィズが除去されてい ¾ぃ。 また第 2図に示すバリ スタを含む従来のノィズフ ィ ルタ回路か らの出力特性は第 5図の Bのよ うであ!)、 ノイズが除去されて いるが、 このよ う ¾構成では機器内部における部品点数が多く る上に機器の小形化動向に相反するという欠点を有していた。 従って異常高電圧を吸収し、 ノイズるどの低電圧を除去でき、 しかも部品点数が少なく小形化可能る電子部品が要求されてい o
[0018] 発明の開示
[0019] そこで本発明では、 S r T i〇3を S O . 8〇0〜9 9 . 9 9 6 モル ^
[0020] O • と、 半導体化促進用金属酸化物と して Nb205を O.001〜0.200 モノレ と Ta205を O .001〜5. OOO モル ^含有し、 さらに Mn02 を O. O01〜2. OOO モル と、 Ga, P t, T^, S i, T i, L i, La, Cu, Y, Cs, Au, Mo, S, Be, A£ , Na, K, Ca, Cd, I n, B a, Pb, Eu, Gd, Tb, Tm, Lu, Tk, I r, Os , Hf , Ru, g, Zr, Sn, Sb, W からるる群から選択された少る く と も 1 種類以上 の元素を酸化物の形にして 0.0〇1〜2. OOO モル 含有するこ- とを特徵とする電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物を提供しよ う とするものである 0
[0021] 図面の簡単 説明
[0022] 第 1 図は一般的なノ イ ズフ ィ ル タ回路図、 第 2図は従来のバ リ ス ク と コ ンデンサを使用したノ イ ズフ ィ ルタ回路図、 第 3図 - は本発明による電 E依存性非直線抵抗体磁器組成物を用いた素 子の断面図、 第 4図は本発明による電圧依存性非直線抵抗体磁 器組成物を用いたノ イ ズフ ィ ル タ回路図、 第 5図は本発明と従 来のノ イ ズフ イ ルク回路による入力ノ イ ズ と出力状況を示す特 性図である o
[0023] 発明'を実施するための最良の形態
[0024] 発明者らは種々 の実験を積 重ねた結果、 チタ ン酸ス ト ロ ン . チウム (SrTi03) を主体と し、 半導体化促進剤と して Nb205と Ta205を添力 ϋし、 さらに Μη02 と他の適量の添加物を加えるこ とによ 、 従来の組成物とは異 る系での電圧依存性非直線抵 抗体磁器組成物を提案するも のであ ] 、 以下に実施例に基づき 本発明を説明する 0
[0025] <実施例 1 >
[0026] OMPI一 WIPO~ ^ SrTi〇3 と Nb2Os,— Ta2Osと Mn〇2, T^20 を下記の第 1 表に 示した組成比になるように秤量した後、 ボール ミ ルなどによ 湿式で 6時間混合し、 乾燥させた後、 空気中で1000〜1 2SO
[0027] Ό、 1 〜 5時間仮焼する o その後、 ボール ミ ルなどによ!)湿式 で 4時間粉碎し、 乾燥させた後、 有機バイ ンダー (例えばポ リ ビニー ル アル コ ー ルなど) を 8 wt 加え造粒した後、 8. θ 0 X 1 . O (廳) tの形状にプレス圧 1 . Ot/cd で加圧成型した。 この成型体を還元雰囲気 (例えば N2 :H2=1 O : 1) Κ 300 〜 1 450 Cで 1 〜 6時間焼成した。 こう して得られた焼成体の 比抵抗は Ο. 1〜0. 8X2 · で、 平均粒径は 2 0〜5 0 ίΐ であ つた。 次に、 この焼成体を空気中で1000〜1 300'C で O.ち〜 5時間焼成し、 第 3図の焼結体 4を得た 0 さらに、 上記焼結体 4の両平面を S iC どの研磨剤で研磨し、 Ag などの導電性 金属を用いて電極 5, 6を形成した o 上記電極 5 , 6の径は 5. O jm) øとした o
[0028] このようにして得られた素子の特性を第 1 表に併せて示す。
[0029] O PI t to
[0030] o Ul o Ul
[0031]
[0032]
[0033] IV)
[0034] υι o ϋΐ o Ul
[0035] 1 ό 96.899 0.100 0.001 1.000 2.000 17 δ 9.8 1.0X 1 O4 5.0
[0036] 17* 95.899 0,100 0.001 1.000 5.000 182 9.2 6 X 1 Q3 7.1
[0037] 18* 97.899 0.100 0.001 2.000 Q 1 0 8.8 5 X 103 10.1
[0038] 1 97.&9Q 0.100 0,0 Q 1 2.000 0.001 198 8.0 9 X 105 10.1
[0039] 20 97,799 0.100 0.001 2.000 0.100 202 8.7 9 X 103 ;3
[0040] 21 95.Q99 0.10Q 0.001 2.000 2.000 204 8.7 1.QX 104 8.9
[0041] 22* 94.899 0.100 0.001 2.000 3.000 255 7.9 5 X 105 7.8
[0042] 23* 9Q.899 0.100 1.000 0.001 0 90 8.0 4 X 105 4.0
[0043] 24 98,898 0.100 1.000 0.001 0.001 100 9.2 8 X 1 O3 2.7
[0044] 25 8.79 0.100 1.000 0.001 0.100 111 11.5 9 X 1 O5 2.3
[0045] 26 90.899 0.100 1.000 0.001 2.000 127 11.0 1.1 X 104 2.3
[0046] 27* 95.Q99 0.100 1.000 0.001 3.000 156 9.1 6 X 1 Q5 6.5
[0047] 28* 7. 00 0.100 1.000 1.000 0 ' 130 8.2 5 X 105 4.2
[0048] 29 97.Q99 0.100 1.000 1.000 0.001 147 9.2 8 X 105 2.9
[0049] 30 97.800 0.100 1.000 1.000 0.100 150 12.0 9 X 103 2.5
[0050] 31 95.900 0.1 Q 0 1.000 1.000 2.000 162 11.5 1.1 X 104 2.5
[0051] 52 + 94.900 0.100 1.000 1.000 3.000 175 9.0 7 X 105 5.4
[0052] to
[0053] Ul o 01 o 01
[0054]
[0055] υι O ui o
[0056] 50* 92.80 Q 0.1 Q 0 5.000 2.000 0.100 151 10.2 8 X 103 9.0
[0057] 51* 90.900 0.100 5.D00 2.000 2.000 158 10.2 8 X 103 8.6
[0058] 52* 89.90 Q 0.100 5.000 2.000 3.000 1 5 8.5 4 X 105 9.2
[0059] 53* 92.899 0.100 7.000 0.001 0 40 4.0 6 X 103 6.2
[0060] 54卞 2.898 0.100 7.000 0,0 Q 1 0.001 60 4.3 6 X 105 6.1
[0061] 55卞 92.799 0.100 7.000 0.001 0,100 63 4.5 6 X 103 5.9
[0062] 56* 0.899 0.100 7.000 0.001 2.000 69 4.5 6 X 103 5,9
[0063] 57* 89.899 0.100 7.000 0.001 5.000 102 4.7 5 X 103 7.8
[0064] 58;|< 91.900 0.100 7.000 1.000 0 49 4.4 6 X 103 10.2
[0065] 5 91.89 0.100 7.000 1.000 0.001 75 4.8 ό X 105 10.1
[0066] 60'ト 1.800 0.100 7.000 1.000 0.100 81 5.2 6 X 103 10.0 ό 1 * 89.900 0.100 7.000 1.0 ο ϋ 2.000 93 5.8 5 X 10δ 9.8
[0067] 62* 88.900 0.100 7.000 1.000 5.000 124 5.0 4 X 10δ 9.9
[0068] 65* 5.800 0.100 1.000 3,000 0.100 211 4.2 5 X 103 25.1
[0069] 64* 2.900 0.100 1.000 3.000 5.000 244 5.5 4 105 21,0 比較例
[0070] 一?一 ここで、 素子のバリ ス タ と しての特性評価は上述した電圧— 電流特性式
[0071] I = ( Vゾ C )な
[0072] (ただし Iは電流、 Vは電圧、 cはバ リ ス タ固有の定数、 αは 非直線指数) における な と Cによ つて行う ことが可能である ο しかし cの正確 ¾測定が困難であるため、 本発明においては、 mA のパ リ スタ電流を流 した時の単位厚み当 のバ リ スタ電 圧 (以下、 V1 mA/mm と呼ぶ) の値と、
[0073] (ただし、 V 0mAは 1 O mA のバ リ ス タ電流を流 した時のバ リ ス タ電圧、 Vi mAは 1 mA のバ リ ス タ電流を流した時のバ リ スタ電 E)
[0074] の値によ ] バ リ ス タ と しての特性評価を行つている o
[0075] また、 コ ンデンサと しての特性評価は測定周波数 1 KHzにお ける誘電率 s , 誘電損失角 ιι δ で行っている 0 上記のデータは 還元雰囲気における焼成温度, 時間を 1 400'C, 2時間、 空気 中での焼成温度, 時間を 1 200 , 3時間で行ったものである o く実施例 2〉
[0076] SrTi〇3と Nb25, Τ 205と Mn02 , Y25 を下記の第 2表に 示した組成比にし、 上記実施例 1 と同様の操作で混合, 成形, 焼成を行い、 同様の条件で測定を した結果を第 2表に示す。
[0077] W
[0078] 2
[0079]
[0080] -X- J !
[0081] cr>
[0082] OS
[0083] P S I
[0084] 〇
[0085] Ol to
[0086] o
[0087] to
[0088] X X X X X X X X X X X X X X X X X
[0089] s i ° o
[0090] 11— 2 00/ 8dVJ i 9^00/S8 υι o 01 o υι
[0091] 53 96.900 0.100 1.000 2.000 0 180 8.0 6 X1 Q5 10.0
[0092] 34 9 ό.899 0.100 1.000 2.000 0.001 192 8.3 8 X1 Q5
[0093] 55 ? 6.8 D D 0.100 1.00 D 2.000 0.100 209 8.4 1.1X104 8.9
[0094] 30 4.900 0.100 1.000 2.000 2.0 Q 0 213 8.9 1.4X1 Q4 8,8
[0095] 57 + ? 3.? 00 0.100 1.000 2.000 3.000 255
[0096] 58^ ? 4.899 0.100 5.000 0.001 0 75 7.2 7 X103 a.o
[0097] 39 ? 4.898 0.100 5.000 0.001 0.001 84 7,4 9 X103 Li
[0098] 40 9 .799 0.100 5.000 0.001 0.1 ϋ u 70 o 7. nU 9 X103 Z.4
[0099] 41 ? 2.8? 9 0.100 5.000 0.Q 01 1 Ί Ί U.U 1.1X104 n
[0100] 91.899 0.100 5.000 0.001 3.000 121 10-2 6 X103
[0101] 43* 95.900 0.100 5.000 1.000 0 82 /.ό 7 X103 o.y
[0102] 44 95.899 0.100 5.000 1.000 0.001 95 8.1 1 104 2.8
[0103] 45 93.800 Q.100 5.000 1.000 0.10Q 102 9.9 1.2X104 2.6
[0104] 46 1.900 0.100 5.000 1.000 2.000 10 10.2 1.1X104 2.6
[0105] 47* 0.900 0.1 Q 0 5.000 1.000 3.000 123 10.5 5 X103 2.2
[0106] 48* 92.900 0.100 5.000 2.000 0 5 Θ.4 7 X103
[0107] 49 92.899 0.100 5.000 2.000 0.001 108 9.0 8 X10 J 9.3
[0108] X
[0109] a β
[0110] η ο V
[0111]
[0112]
[0113] <実施例 3 >
[0114] SrTiOs と Nb25, Ta205と Mn02, BaO を下記の第 3表に 示した組成比にし、 上記実施例1 と同様の操作で混合, 成形, 焼成を行い、 同様の条件で測定をした結杲を第 3表に示す 0
[0115] 以 下 余 白
[0116] υι O Ul o Ul
[0117] 3
[0118]
[0119] -^.
[0120] -¾ ·¾ - リ
[0121]
[0122] - . SI
[0123] Ol cx> cn
[0124] '
[0125] o ai
[0126] X X X X X X X X X X X X X X X X
[0127] 9
[0128] <> P
[0129] — 91—
[0130] S800/f-8if/IDJ 9 S00/S8 OAt tv)
[0131] Ul o Ul O Ul
[0132] 氺
[0133] 35 96.900 0.100 1.000 2.000 0 180 8.0 6 X105 10.0
[0134] 54 96.899 0.100 1.000 2.000 0.001 1 0 8.5 8 X105 9.2
[0135] 35 96.800 0.100 1.000 2.000 0.100 204 8.9 1 X104 9.0
[0136] 36 94.900 0.1 Q 0 1.000 2.QQQ 2.000 210 9.4 1.5X1 Q4 8.8 氺
[0137] 57 95.900 0.100 1.000 2.000 5.000 245 9.5 8 X 105 8.1 氺
[0138] 58 4.899 0.100 5.000 0,001 0 75 7.2 7 X103 3.8
[0139] 59 4.898 0.100 5.000 0.001 0.001 81 7.9 9 X103 2.9
[0140] 40 94.799 D.100 5.000 0.001 0.100 85 9.9 1 X104 2.5
[0141] 41 92.899 0.100 5.000 0.001 2.000 100 10.4 1.2X104 2.1
[0142] 42 *个 91.899 0.100 5.000 0.001 3.000 115 11.0 6 X10 " 2.0 氺
[0143] 43个 93.900 0.100 5.000 1.000 Q 82 7.6 7 X103 3.9
[0144] 44 93.899 0.100 5.000 1.000 0-001 85 8.3 9 X10 J 2.9
[0145] 45 3.800 0.100 5.000 1.000 0.100 97 10.1 1.1X104 2.6
[0146] 46 1.900 0.100 5.000 1.000 2.000 108 11.2 1 X104 2.2
[0147] 47 0.900 0.100 5.000 1.000 5.000 120 10.7 5 X103 2.1 氺
[0148] 48 92.900 0.100 5.000 2.000 0 5 8.4 7 X103 9.4
[0149] 49 92.899 0.100 5.000 2.000 0.001 102 9.2 8 xi r 9.3
[0150]
[0151]
[0152] o in
[0153] 8
[0154] <実施例 4 >
[0155] SrTiOs と Nb。0 , Ta205Mn02, Hf02を下記の第 4表に 示した組成比にし、 上記実施例 1 と同様の操作で混合, 成形, 焼成を行い、 同様の条件で測定をした結果を第 4表に示す o
[0156] 以 下 余 白
[0157]
[0158] —ϋΖ·
[0159] S8800/t8Jf/lDJ 9^00/28 OA Oi ro ro to ro ro ) ro
[0160] o 00 J J ― cn o- O CO 00 oi cn CN
[0161] CD CD ND CO 00 CD CD CD 00 CO 00 O 00
[0162] o O O o •O -o •o -o
[0163] o O >o OD > O ND -o o o o O O σ O p p p CD p
[0164] o ◦ o o O o O o o o
[0165] o o o o O o o o o p p
[0166] CD o CD o o b o O CD CD o
[0167] o CD σ o o o o
[0168] O
[0169] o CD
[0170] S I
[0171] p p CD ) ° ro ro
[0172] o CD o CD ό
[0173] o σ O O O CD o
[0174] CD σ o
[0175] Oi r σ CM ro P P CM ro
[0176] o o o O - o - o o o o
[0177] o σ o o ^ o
[0178] OI
[0179] r ) ) ro N>
[0180] o- J1 CM t 00
[0181] D o n CO o ho cn o 00 J CD 00 CO CO
[0182] ro f σ bo in o CO
[0183] CN o n o
[0184] X X X X X X X X X X X X X X X X X 9
[0185] CD o o o o o o
[0186] cn ro > C ro i CO p p I CN
[0187] · > fo 3 N> o
[0188] CM ro is CO
[0189] 一
[0190] 9^00/S80丛
[0191] SS800/ 8Jf/XD«i ¾/o sssojsS8 OA
[0192] V6 E0 IX L 0 921· l 00Ό ΟΟΌ'Ζ 00 O'S 0010 66d'Z6
[0193] 0 l-X L S6 0 ΌϋΟΖ 00 O'S 00 0 ΌΌό'Ζό ε0 Ι·Χ 9 2 ' 69 I 0002 oom 00 O'S 00 0 ΟΟό'Οό
[0194] ,,ο ιχζ ι z-o I 9S I 000'3 οοο·ι ο ο o-g 00 ΙΌ Ό06Λ6 n £-0 I 921 00 ΙΌ 00 ο·ι 00 o's 00 o 009·
[0195] t
[0196] 2τ J a a 9Ό 60 !· 100Ό 0001 00 o's 00 0 66Q' 6 ό s0 IX X L 'L Z8 0 000'L 00 o's 00 0 006·
[0197] 9'2 5o tx 6V LV I 00 OS 1-00Ό 00 OS 00 0 64816
[0198] YZ ε0 tX 6 Q-6 OS 1· 000-2 l 00Ό 00 o's 00 0 66Q-Z6 1 V
[0199] LZ 50 IX 8 90 t 00 0 ι· 00·0 00 o's 00に 0 66 .^ 6
[0200] Ζ'ζ 20 IX L 8 00 i l 00Ό [ 0 ΟΌ 00 OS 00 ΙΌ 62
[0201] 8S 0 IX L ZL 9 L 0 1· 00Ό 0009 00レ 0 66Q 6
[0202] 6-B 0 l-X 8'9 092 000 000'3 oom 00レ 0 006-S6 "
[0203] 69 0 IX 8 い 8 9172 00 o'z 0002 ooo't 00 0 92
[0204] V6 0 IX L 08 00に 0 0002 OOO't 00に 0 008·96 9
[0205] 9'6 0·8 902 100Ό 000'2 oom 00 0 66Q-96
[0206] 0Ό i 0 IX 9 0Ό 08 I 0 0002 oom 00 0 00 -96
[0207]
[0208] 醫 l/ io.fI¾ 9/ S0S08A OL
[0209] U 十
[0210] N CM
[0211]
[0212] in o in o i
[0213] (M
[0214] • <実施例 5 >
[0215] SrTiOs と Nb205, Ta 0K と Mn02, Zr02を下記の第 5表に 示した組成比にし、 上記実施例 1 と同様の操作で混合, 成形, 焼成を行い、 同様の条件で測定をした結果を第 5表に示す 0
[0216] 5 下 余 白
[0217] 0
[0218] S
[0219] 0
[0220] 5
[0221] ΟΜΡΓ OS
[0222] 91
[0223] OI
[0224] 9
[0225]
[0226] -93—
[0227] 9^00/S80丛
[0228] Z2200/f8di/10d IV) o ut
[0229] 20
[0230]
[0231] /A 8Jεοο寸f εε>d 8 OAL
[0232] n U L v / U O Z I i 1, o Q 000'3 0 o 0'9 00に 0 662Ί6 . 6 O n L / C
[0233] o u n 0 o Q'Z 0009 00 ΙΌ 006Ί6 J
[0234] t7 S 1. 000*9 000Ί 00 OS 00 0 ΟΟό'Οό
[0235] 7 j n u i u nn i ^ o t 00 ΰ'Ζ 000 Ί- 000'9 0010 006"16 9
[0236] fr0 IX 1· 10 I 001- 00 0 000Ί 00 OS 00 ΙΌ 00856 9 V
[0237] /'z ε0 IX X X 6 2*9 56 000 00 O'l 000"S 00 0 66QZ6
[0238] 7
[0239] O z 0 IX L 7 Q o n n u n u n u'L n u n nc J 0 ο ο 00 ό'26
[0240] Q 7'C Z I, o 0*0 0 o o 00 ΙΌ 66816
[0241] C*7 j,0 IX I o o n L L u u u ο η ΙΌ 662'Ζ6 i
[0242] CM '7 50 IX 6 0 o A n u n u rn u 1 n u n u'n u U U U η η I'D 66 6 0 t7
[0243] ε01·Χ 8 C Q t 00Ό 1· 0 O'O 0 o 0'9 00 ΙΌ Q6Q'P 6 6 £ p o*c z f0 IX L ' t G 1 n U U U U u uコ π η L*n 66 6 9 ζ
[0244] Q σO o Li-Q O Q o C 7 J l_ i π u n u n u*z 000 !- 0 ο ι,ο +
[0245] 98 s0 IX 8 LQ ΐ· e 1 0002 0 o oz 0001- 00 Γ0 99
[0246] 68 s0 l-X L ZQ 602 00レ0 0002 000Ί- 00 Γ0 00890 SS
[0247] 170 50 ίΧ L 8 ό I I 00Ό 0007 0001 00 f0 66890 175
[0248] 001· 01·Χ 9 09 081 0 o o ϋτ 000Ί- 001·Ό 006-96
[0249] in O ID
[0250] 8
[0251] 比較例
[0252] • 実施例 "1 〜 5に示したよ うに、 Nb205, Ta205は還元焼成時 に SrTi〇s を主体とする結晶中に固溶し、 原子価制御によ ] 焼 結体の比抵抗を 1. 前後に下げることができるため、 空 気中で再焼成することによ 焼結体粒子境界に高抵抗層が形成 されバリスタ特性を示す。
[0253] また、 Nb25は原料中の Ti02 中に混存して含まれるもので あ!)、 通常工業的に精製される原料中には O. 001〜0. 200モ ル 含まれる。 Nb205だけで SrTi03 を半導体化した場合比抵 抗はやや高く る ] 、 バリス タ特性は示すも のの特性が不安定で ある。 しかし、 Nb205に Ta205を加えると比抵抗を低くするこ とができ、 安定した特性が得られる。 Ta205の添加量は多過ぎ ると他の添加物の固溶を阻害するため、 O. 0〇15. OOOモル ^が適当である。
[0254] Mn02 を添加すると粒界に偏析することによ ] 、 粒界層を高 抵抗化し、 粒界のエネルギー障壁は高くるる o そのため Mn02 を添加することによ 1 非直線指数なは大き ぐなると共にパ リ ス タ電圧は高く なる 0
[0255] また、 Mn02 添加によ 粒界の高抵抗領域が広がるため絶縁 層の厚みが増加したことにる 、 誘電率は減少する o
[0256] Mn02 .は複数の原子価をとるため、 異なる原子価の Mil の間 でホッ ビング伝導を生じる可能性がある o そのため Mn02 の添 加量が増加すると が大き く 、 特性劣化の原因と ¾る0 従って、 Mn02 の添加量は、 O. 001〜2. OOOモル カ 適当で る〇
[0257] Ga, P t, Ί£ , S i, T i , L i, La, Cu, Y, Cs , Au, Mo , S,
[0258] O PI Be, , Na, , Ca, Cd, I n, Ba, Pb, Eu , Gd, Tb, Tm, Lu, Tk, I r, Os, Hf , Ru, Mg, Z r , S n , Sb及び Wからなる 群から選択された少¾く とも 1 種類以上の元素を同時に添加す ると、 Mn02 によって大き く した非直線指数なを変えることな く誘電率を大き く し、 δを小さくすることができ、 特性は大 幅に改善することができるが、 添加量が多く ると誘電率が小 さく ¾るため、 0.001〜2.000 モル が適当である ο
[0259] ¾ぉ、 実施例では Ga, P t, T^, S i , T i , L i , La, Cu, Y, Cs, Au, Mo, S, Be, AS, Na , K, Ca, Cd, I n , B a, Pb, Eu, Gd, Tb, Tm, Lu, Th, I r , Os , Hf , Ru, Mg, Z r , S n, S b 及び Wをそれぞれ単体で加えた場合についてのみ示したが、 複 数種類の元素を同時に規定量の範囲内で加えても同様の効果が あることを確認した o
[0260] 上記のよ うにして得られた素子に Ag るどの導電性材料によ 電極を設けた素子 7とコ イ ル S とを用いて第 4図に示したノ ィ ズフ ィ ルタを構成し、 第 5図に示したノ イズ入力 Aを印加し たところノ イ ズ出力 Bを得た。
[0261] これよ!)明らかなよ うにノ イズは十分に除去され、 しかも素 子単体とコィルの組合せによ 部品点数が少なく な 、 小形化 が可能となる o
[0262] 産業上の利用可能性
[0263] 以上説明したよ うに本発明の電圧依存性非直線抵抗体磁器組 成物によれば、 電気機器, 電子機器に加わる異常高電圧吸収及 びノィズ除去が単一素子で行え、 多機能を有しかつ小形化可能 であ 、 電気機器及び電子機器の半導体製品の保護に ¾くては
[0264] OMPI るら いものであ 、 実用上の利用価値は極めて大きい o
[0265] 5
[0266] 10
[0267] 15
[0268] 20
[0269] 25
[0270] OMPI
[0271] WIPO
权利要求:
Claims 請 求 の 範 囲
1. SrTi〇3 を SO.800〜99. 996 モル と、 半導体化促進用 金属酸化物として Nb205を O. OOi^O.200 モル と、 Ta205 を O.001〜5. OOO モル 含有し、 さらに MnOつ を O.001〜 2. OOO モル と、 Ga, P t , T , S i , T i, L i , La, Cu, Y, Cs, Au, Mo, S, B e , A£ , Na , K, Ca , Cd, In, B a, P b , Eu, Gd, Tb, Tm, Lu, TK, I r , Os , Hf , Ru, Mg, Zr, Sn, S b 及び Wから る群から選択された少なく とも 1 種類以上の元素 を酸化物の形にして O.001 ~2.000 モル 含有することを特 徵とする電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 ο
类似技术:
公开号 | 公开日 | 专利标题
JP5190492B2|2013-04-24|酸化亜鉛バリスタを作製するための2つの独立した処理手順を介して酸化亜鉛バリスタを製造するプロセス
JP3822798B2|2006-09-20|電圧非直線抵抗体及び磁器組成物
TWI329878B|2010-09-01|X7r dielectric composition, multilayer ceramic chip capacitor and method of fabricating the same
EP0189087B1|1988-06-22|Spannungsabhängiger elektrischer Widerstand |
US5500629A|1996-03-19|Noise suppressor
KR100278416B1|2001-01-15|유전체 세라믹과 그 제조방법, 및 적층 세라믹 전자부품과 그 제조방법
KR100414331B1|2004-01-07|비환원성 유전체 세라믹 및 이것을 사용한 모놀리식 세라믹 커패시터
US5369390A|1994-11-29|Multilayer ZnO varistor
EP0103748B1|1990-07-25|Kombinierte Schaltung mit Varistor
EP1721878A1|2006-11-15|Insulating ceramic composition, insulating ceramic sintered body, and multilayer ceramic electronic component
CN101341558B|2011-01-12|带可变阻功能的层叠型半导体陶瓷电容器及其制造方法
CA1096604A|1981-03-03|Ceramic capacitor having a dielectric of ||o.sub.3 and batio.sub.3
US6380116B1|2002-04-30|Dielectric ceramic composition and monolithic ceramic capacitor
US4781859A|1988-11-01|Voltage-dependent non-linear resistance ceramic composition
DE69632659T2|2005-06-09|Vielschichtvaristor
EP0605904B1|1996-08-14|Nonreducible dielectric ceramic composition
EP0257653B1|1992-11-04|High dielectric constant ceramic material and method of manufacturing the same
EP0044981B1|1985-02-06|Semiconductive ceramic compositions with a nonlinear volt-ampere characteristic, and process for preparing coherent bodies of such compositions
CN101350241B|2012-06-27|可变电阻
US3988498A|1976-10-26|Low temperature fired electrical components and method of making same
EP0155363B1|1989-02-08|Low temperature sintered ceramic materials for use in solid dielectric capacitors or the like, and method of manufacture
JP5077362B2|2012-11-21|誘電体セラミック及び積層セラミックコンデンサ
GB2420012A|2006-05-10|Resisting paste, resistor and electronic parts
DE4036997A1|1991-05-23|Monolithischer varistor
KR100307681B1|2001-09-24|유전체 세라믹 조성물, 적층 세라믹 커패시터 및 적층 세라믹 커패시터의 제조방법
同族专利:
公开号 | 公开日
EP0153412A4|1985-12-12|
DE3477437D1|1989-04-27|
EP0153412A1|1985-09-04|
US4839097A|1989-06-13|
EP0153412B1|1989-03-22|
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
JPS5735303A|1980-07-30|1982-02-25|Taiyo Yuden Kk|Voltage vs current characteristic nonlinear semiconductor porcelain composition and method of producing same|
JPS57207323A|1981-06-16|1982-12-20|Matsushita Electric Ind Co Ltd|Composite function element|
JPS58135604A|1982-02-08|1983-08-12|Taiyo Yuden Kk|Voltage nonlinear porcelain composition|FR2577317A1|1985-02-08|1986-08-14|Inst Rech Hydrologique|Appareil de mesure de la turbidite d'un liquide en flux continu.|JPS5821806B2|1979-08-31|1983-05-04|Taiyo Yuden Kk||
JPS5720723A|1980-07-14|1982-02-03|Canon Inc|Camera|
DE3128231A1|1981-07-16|1983-02-03|Siemens Ag|Tinten fuer tintenstrahlschreibeinrichtungen|
US4545929A|1981-07-22|1985-10-08|Taiyo Yuden Co., Ltd.|Ceramic materials with a voltage-dependent nonlinear resistance|
JPH0223005B2|1982-08-24|1990-05-22|Taiyo Yuden Kk||
DE3484332D1|1983-02-10|1991-05-02|Matsushita Electric Ind Co Ltd|Porzellanzusammensetzung fuer spannungsabhaengigen nichtlinearen resistor.|EP0255072B1|1986-07-29|1993-04-21|TDK Corporation|Semiconductive ceramic composition and semiconductive ceramic capacitor|
JPS63141205A|1986-12-04|1988-06-13|Taiyo Yuden Kk|Dielectric ceramic|
JP2649342B2|1986-12-04|1997-09-03|太陽誘電株式会社|電子部品用磁器の製造方法|
JP2649341B2|1986-12-04|1997-09-03|太陽誘電株式会社|粒界絶縁型半導体磁器|
EP0412167B1|1989-02-16|1995-12-20|Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.|Laminated type grain boundary insulated semiconductor ceramic capacitor and method of producing the same|
KR940008695B1|1991-12-26|1994-09-24|박원희|입계형 반도성 자기 콘덴서|
US5378667A|1993-12-10|1995-01-03|Korea Institute Of Science And Technology|Intercrystalline semiconductive ceramic capacitor|
JP2001077108A|1999-08-31|2001-03-23|Nec Corp|半導体装置及び複合酸化物薄膜の製造方法|
US6627570B2|2000-02-09|2003-09-30|Tdk Corporation|Dielectric ceramic composition, electronic device, and method of producing the same|
US6656863B2|2000-02-09|2003-12-02|Tdk Corporation|Dielectric ceramic composition, electronic device, and method for producing the same|
US6645895B2|2000-03-30|2003-11-11|Tdk Corporation|Method of producing ceramic composition and method of producing electronic device|
TW577184B|2002-12-26|2004-02-21|Epistar Corp|Light emitting layer having voltage/resistance interdependent layer|
KR100778105B1|2006-03-30|2007-11-22|한국과학기술원|입계 편석을 이용한 SrTi03계 베리스터의 제조방법|
CN101114539B|2007-08-21|2010-08-18|西南交通大学|氧化铽的用途|
JP5803375B2|2011-07-21|2015-11-04|Tdk株式会社|積層チップバリスタ及び積層チップバリスタの製造方法|
法律状态:
1985-01-17| AK| Designated states|Designated state(s): US |
1985-01-17| AL| Designated countries for regional patents|Designated state(s): DE FR GB |
1985-02-18| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1984902606 Country of ref document: EP |
1985-09-04| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1984902606 Country of ref document: EP |
1989-03-22| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1984902606 Country of ref document: EP |
优先权:
申请号 | 申请日 | 专利标题
JP58/117569||1983-06-28||
JP58/117581||1983-06-28||
JP58117580A|JPS609102A|1983-06-28|1983-06-28|Voltage depending nonlinear resistor porcelain composition|
JP58117569A|JPS607703A|1983-06-28|1983-06-28|Voltage depending nonlinear resistor porcelain composition|
JP58/117580||1983-06-28||
JP58117581A|JPS609103A|1983-06-28|1983-06-28|Voltage depending nonlinear resistor porcelain composition|DE19843477437| DE3477437D1|1983-06-28|1984-06-28|Voltage-dependent, non-linear resistor porcelain composition|
[返回顶部]